光學涂層冷卻器通常用于光學涂層加工中。

許多精密光學元件接受鍍膜，以改善它們在某些波長或偏振態(tài)下的透射或反射。涂層的最常見類型是防反射（AR），高反射（鏡面），分束器和濾光片。
防反射通常用于眼鏡和照相鏡片，而高反射鏡用于生產(chǎn)反射大于99.99％的光的反射鏡。

但是，許多因素在光學涂層的處理中起著至關重要的作用，包括沉積速率，基材溫度，氧氣分壓，厚度校準，材料熔體預處理和電子槍掃掠。其中之一
是可以通過光學鍍膜冷卻器消除的溫度，從而獲得高質(zhì)量的最終光學鍍膜產(chǎn)品。

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